俄罗斯造出150纳米光刻机！性能相当于20年前的奔腾4水平

coolriselee · 发表于 2026-7-21 13:41

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7月21日消息，俄罗斯绿城纳米技术中心（ZNTC）已成功研制出设计标准为150纳米的电子束光刻机原型机，该项目属于俄罗斯国家计划科学技术发展框架下的重点研发任务，代号为Progress ELL 150。该设备可用于制造光掩模，也可无掩模直接在基板上绘制电路图案。 2025年ZNTC曾展示过350纳米分辨率的同类设备，目前正推进90纳米、130纳米技术节点研发。两台原型机正进行为期约四个月的综合测试，后续将开展工艺参数验证，其中一台将运往距绿城2000公里外的地点进一步测试。该类设备灵活性强但速度慢，仅适合航天、国防领域专用芯片小批量生产，俄罗斯半导体产业当前正面临多重相关发展困境。