Litho Bridge Defect（二）
一、光刻中"Bridge Defect“亚种？今天介绍的这种则是有比较明显特征的，在defect map上表现为分布面积很大，在形貌上表现为大块区域的光阻桥连，从发生的概率上讲，几乎占据了90%，其分布及形貌见下图。而第一次介绍的那种defect，表现为很小的区域，甚至可以为一个“点”，从形貌上来看，也是很小的一点，像一个爆破的微泡，这种桥连缺陷一般不常见，在实际中大概约10%发生，其分布与形貌见下图。将他们放一起对比，大家仔细体会，与由COT造成的Bridge Defect加以区分。二.这种缺陷如何造成？
这种比较简单，问题直接锁定在DEV，一般情况下是由于显影不良造成的，大致可以细分为以下两个方面原因:1)由于显影Nozzle造成，比如说Nozzle头脏了，或者显影液喷淋异常等，影响了光刻胶显影质量。2）由于Rinse问题造成，比如说Rinse冲洗单元有异常，rinse不太充分，显影后的残留没冲洗干净等。三.出现这种缺陷，我们怎么办？FAB里必须树立的意识"止血"，工艺工程师Down机，然后通知设备工程师去清DEV chamber。而在研发平台，那么自己简单清洗一下显影Nozzle就行，然后dummy一下就继续流片了。
朋友，这种喷淋异常，有没有更详细的分析 euv吗？效果怎么样
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